The Fastest and Most Accurate MFCs

반도체 공정을 위한 완벽한 성능

• 임베디드 진단은 실시간 EtherCAT® 데이터 수집이 가능합니다.
• 매우 안정적인 유량 센서(≤ 0.15%S.P. drift per year)를 통해 더 엄격하게 낮은 유량에서의 정확도를 실현하고 유지보수 필요성을 줄입니다.
• 밸브 차단 개선(≤ 0.15% of bin range)을 통해 밸브 Leak를 줄여 First Wafer Effects를 줄입니다.
• 새롭게 강화된 압력 과도 무감응성으로 일정한 질량 흐름 전달을 위해 상호 간섭 민감도를 줄입니다.

특징

• 연간 ±0.15%F.S. 미만의 장기간 Zero 안정성
• >Settling times : 300 ms ~ <1 초
• 최대 300 slpm의 F.S 유량
• 모든 금속 씰 흐름 경로: 5µ 또는 10µ inch Ra 표면 마감 옵션
• 내식성 Hastelloy® T-Rise 센서를 통해 고온에서의 측정 재현성을 향상
• MultiFloTM 가스 및 범위 프로그래밍 - 가스 라인에서 MFC를 제거하거나 정확도에 영향 없이 수 천 가지 가스 유형과 범위 조합을 하나의 기기로 처리 가능
• 편리한 사용자 디스플레이 및 독립 진단/서비스 포트가 장치의 설치, 모니터링, 문제 해결을 지원
• GF120 안전 전달 시스템(SDS® : Safe Delivery System)은 Implant 와 Etch 공정에 이용되는 보조 기압 안전 전달 시스템(SDS : Sub atmospheric safe Delivery System)을 위한 Brooks의 최신 저압 강하 질량 유량 제어기입니다

장점

• 뛰어난 성능
  • 빠른 응답 시간으로 적용 효율성을 높입니다
• 유연한 토폴로지
  • 실질적으로 제한이 없는 네트워크 토폴로지 가능
• 단순함과 견고함
  • 구성, 진단 및 유지보수
• 적정 가격
  • 표준 Ethernet Port

응용

• 반도체 Etch 도구
• 박막 화학 기상 증착 시스템(CVD, MOCVD, PECVD, ALD)
• 물리적 기상 증착(PVD) 시스템
• 에피텍셜 프로세스 시스템