Semiconductor Manufacturing
반도체 제조는 수천 개의 정밀하게 제어되는 단계를 필요로 하는 매우 복잡한 프로세스입니다. 이러한 단계의 대부분은 중요한 Gas 혼합물과 진공을 사용하기 때문에 이를 측정하고 조절하는 것이 일관성, 품질 및 수율의 핵심입니다. MFC, Pressure Controller, PLC 등을 포함한 광범위한 Brooks Instrument 솔루션은 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 활용되어 성공적이고 수익성 있는 결과를 보장하는데 도움이 됩니다.
적용 예:
- Annealing
- CMP
- Deposition
- Diffusion
- Epitaxy
- Etching
- Ion Implantation
- Lithography
- Precise Control of Gas Delivery for Liquid and Solid Precursors
- Pressure-based mass flow controller provides more accurate gas flow control for ozone applications
액체 및 고체 전구체를 위한 가스 전달의 정확한 제어
액체 또는 고체 전구체로부터의 증기 전달 제어는 CVD(Chemical Vapor Deposition), MOCVD(Metal Organic Vapor Deposition), ALD(Atomic Layer Deposition) 공정에서 필수적인 요건이다.
- 06/20/2022
저압 오존 응용 분야의 압력 기반 질량 흐름 컨트롤러
오존은 반도체 제조 분야의 다양한 응용 분야에서 사용되는 강력한 산화제입니다. 빠른 반응 속도로 많은 산화물 화합물 및 복잡한 구조의 생산을 가능하게 하여 반도체 제조 공정에 실용적인 선택이 됩니다. 그러나 열 분해 및 저압 전달로 인해 오존을 정밀하게 제어하는 데 어려움이 있습니다.
Alexandra Davila - 03/14/2022
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