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Semiconductor Manufacturing

MFC, Pressure Controller, PLC 등을 포함한 광범위한 Brooks Instrument 솔루션은 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 활용되어 성공적이고 수익성 있는 결과를 보장하는데 도움이 됩니다.

반도체 제조는 수천 개의 정밀하게 제어되는 단계를 필요로 하는 매우 복잡한 프로세스입니다. 이러한 단계의 대부분은 중요한 Gas 혼합물과 진공을 사용하기 때문에 이를 측정하고 조절하는 것이 일관성, 품질 및 수율의 핵심입니다. MFC, Pressure Controller, PLC 등을 포함한 광범위한 Brooks Instrument 솔루션은 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 활용되어 성공적이고 수익성 있는 결과를 보장하는데 도움이 됩니다.

적용 예:

  • Annealing
  • CMP
  • Deposition
  • Diffusion
  • Epitaxy
  • Etching
  • Ion Implantation
  • Lithography

 

액체 및 고체 전구체를 위한 가스 전달의 정확한 제어

Pe액체 또는 고체 전구체로부터 증기의 제어된 전달은 화학 기상 증착(CVD), 금속 유기 기상 증착(MOCVD) 및 원자층 증착(ALD) 공정의 필수 요구 사항입니다. 

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