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Flüssigmedium- und Dampfbereitstellungstechnologie für Halbleiter

Herausforderung: Die Reinheit von Prozessen der Flüssigmediumverdampfung maximieren

Viele konventionelle Verdampferssysteme weisen wesentliche Einschränkungen auf, die ihre Anwendbarkeit für die hochgradig anspruchsvollen Halbleiterprozesse beeinflussen. „Bubbler“ oder Dampfauszugsgeräte sind kompliziert zu starten und stoppen, erfordern eine enge Temperatur- und Druckregelung und sind ineffizient beim Erzeugen eines gutgeregelten Dampfmassedurchflusses. Auch Entspannungsverdampfer, die die Wärme mittels einer heißen Metalloberfläche auf das Flüssigmedium übertragen, sind ineffizient beim Erzeugen einer Dampfmasse und können eine thermische Zersetzung der flüssigen Vorprodukte verursachen. Keine dieser konventionellen Technologien kann das Potential für die Verschleppung des Flüssigmediums und die dadurch hervorgerufene Kontamination des Hauptprozesses vermeiden.

Lösung: DLI Verdampfer von Brooks Instrument

Die DLI Verdampfer von Brooks Instrument (Flüssigmediumdirekteinspritzung) setzen statt einer heißen Metalloberfläche Heißgas ein, um die Flüssigmediumverdampfung zu bewerkstelligen. Das Flüssigmedium wird beim Eintritt in die Heißgaskammer durch ein Trägergassytem vernebelt. Sobald das vernebelte Flüssigmedium in Kontakt mit dem Heißgas kommt, verwandelt es sich augenblicklich in Dampf. Das Ergebnis ist chemisch reiner Dampf, frei von sich abspaltenden Nebenprodukten oder der Verschleppung des Flüssigmediums. Das Ergebnis: Halbleiterabscheidungsprozesse, die eine Dampferzeugung aus Flüssigmedium erfordern, sind mit einer auf Maximaldurchsatz und höchste Wasserqualität ausgelegten Reinheit und Dampfmassedurchflussregelung ausgestattet.
Module für die Dampfbereitstellung
Module für die Dampfbereitstellung
Gerätetyp
Unterscheidungsmerkmal
Verdampfungsmethode
Art des Mediums
Dampfbereich
Heizleistung
Maximaler Druck
Maximale Temperatur