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メタルシールサーマル式マスフローコントローラ/メータ

高清浄流路、高精度、汚染のない制御を実現
現在の高度な電子デバイス製造プロセスでは、幅広い種類の高純度ガスやリキッドプリカーサーの正確かつ繰り返し性の高い測定と制御が求められます。ブルックスインスツルメントは、革新的なメタルシールマスフローコントローラ/メータでこうしたニーズに応えます。安定性の高い高精度測定センサ、高速・精密制御バルブ、パワフルなデジタル電子部品を組み合わせることで、精度の高い化学薬品コントロールを行います。腐食したプロセスメディアからの湿気や酸素などの混入を防止するよう設計されており、高インテグリティ(リークタイト性能)、高清浄性、メタル製接ガス部流量経路でプロセス薬品の清浄度を維持します。

主な用途

  • シリコン半導体デバイス製造プロセス - エッチング、ストリップ、CVD、ALD、PVD、Epi、拡散、インプラント、RTP(急速熱処理)など
  • 複合半導体デバイス製造プロセス - MOCVD
  • 精密設計の表面被膜
  • 解析システム
  • 真空プロセスアプリケーション
プロセスの条件に最適なマスフローデバイスを選択

製品

GF135 シリーズ
GF135 シリーズ
GF125 シリーズ
GF125 シリーズ
GF100 シリーズ EtherCAT
GF100 シリーズ EtherCAT
GF100 シリーズ
GF100 シリーズ
GF80 Series
GF80 Series
5850EM シリーズ
5850EM シリーズ
Product Type Mass Flow Controller

Mass Flow Controller

Mass Flow Controller

Mass Flow Controller

Mass Flow Controller

Mass Flow Controller
Differentiator

Real-Time Flow Error Detection

Advanced Diagnostics

Ultra-High Purity

Ultra-Fast Response Time

Pressure Transient Insensitivity

EtherCAT Communication

High Purity/Ultra-High Purity

Embedded Diagnostics

Ultra-stable Flow Sensor

Improved Valve Shutdown

High Purity/Ultra-High Purity

Standard GF Series

High Flow GF Series

High Purity

Large installed base with proven long term performance

流量範囲(フルスケール容量)

3 sccm - 5 slm (N2 Eq.)

3 sccm - 300 slm

Standard GF Series: 3 sccm - 55 slm

High Flow GF Series: 55 slm - 300 slm

Standard GF Series: 3 sccm - 55 slm

High Flow GF Series: 55 slm - 300 slm

3 sccm - 300 slm .06 sccm - 30,000 sccm
Level of Purity 4µ inch Ra
4 - 5µ inch Ra

5 - 10µ inch Ra

4 - 10µ inch Ra 16µ inch Ra

316L VAR, 316L, and high alloy ferritic stainless steel

精度

±1% S.P. 10-100% F.S.

±1% S.P. plus ±0.04% F.S. 2-10% F.S.

±1% S.P. > 35-100%

±0.35% F. S. 2-35%

Standard GF Series: ±1% S.P. > 20-100%; ±0.2% F.S. 2-20%

High Flow GF Series: ±1% S.P. > 35-100%; ±0.35% F.S. 2-35%

±1% S.P. > 35-100%

±0.35% F.S. 2-35%

±1% S.P. 35-100%

±0.35% F.S. < 5-35%

1% F.S. incl. linearity

1.5% F.S. incl. linearity >20 slpm

Repeatability < ±0.15% S.P. < ±0.15% S.P. < ±0.15% S.P. < ±0.15% S.P. < ±0.2% S.P.

0.2% of rate

Response Time - NC

<300 ms (<860 sccm N2 equivalent)

<400 ms (861-5000 sccm N2 equivalent)

(to within ±2% FS)

<300 ms (<860 sccm N2 equivalent)

<400 ms (861-5000 sccm N2 equivalent)

(to within ±2% FS)

<300 ms (<860 sccm N2 equivalent)

<400 ms (861-5000 sccm N2 equivalent)

(to within ±2% FS)

300ms - < 1 sec

Normally Closed Valve: 300 ms - < 1 sec

SDS Gas Delivery: < 3 sec

Normally Closed Valve: 700 ms - < 1 sec

SDS Gas Delivery: < 3 sec

Normally Closed Valve: <1 sec

Normally Closed Valve: <3 sec

Optional: 600 msec

Pressure Insensitivity

< 1% S.P. for up to 5 psi/sec upstream press. spike

<5% S.P. for up to 5 psi/sec upstream press. spike

Specific models

Multi-Gas Multi-Range

MultiFlo™ Standard (most models) MultiFlo™ Standard (most models) MultiFlo™ Standard (most models) MultiFlo™ Available

Diagnostic Capability Available

Available

Available

Available

Available

Analog Communication

0-5 Vdc

0-5 Vdc

0-5 Vdc

0-20 mA

4-20 mA

0-5 Vdc

0-10 Vdc

4-20 mA

0-5 Vdc

Digital Communication

DeviceNet™

RS485

DeviceNet™

RS485 L-Protocol

EtherCAT®

DeviceNet™

RS485 L-Protocol

DeviceNet™ 

Profibus®

RS485 S-Protocol

RS485 L-Protocol

RS485 A-Protocol (GF081)