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半導體製造

半導體製造是一個極其複雜的過程,需要數千個精確控制的步驟。 由於這些步驟中的大多數使用了氣體和真空的關鍵混合物,因此測量和調節它們是一致性、質量和產量的關鍵。 在整個半導體製造過程中使用廣泛的 Brooks Instrument 解決方案,包括質量流量控制器、壓力控制器、PLC 等,以幫助確保取得成功和盈利的結果。

應用示例

  • 退火
  • CMP
  • 沉積
  • 擴散
  • 外延
  • 離子注入
  • 光刻

精确控制液体和固体前体的气体输送

控制液体或固体前体的蒸汽输送是化学气相沉积(CVD)、金属有机气相沉积(MOCVD)和原子层沉积(ALD)工艺的一个基本要求。

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